Constellation 2.4 尾 气处 理系 统 主 要用来处理 GaAs/InP MOCVD 设备产 生的含砷烷（AsH3）和磷烷（PH3）等 毒气。
该尾气处理器主要根据化学反应原理，利用砷烷与磷烷的还原性性质，采用强氧化性NaClO溶液，配合控制过程PH值，在设备内部文式入口和两级填料塔处进行充分接触时相互之间发生氧化-还原反应以去除砷烷与磷烷至安全浓度以内。
系统采用化学反应式将尾气砷烷和磷烷有毒气体去除的反应方程式如下：
AsH3 + 4NaClO+3NaOH = Na3AsO4 + 4NaCl + 3H2O
PH3 + 4NaClO+3NaOH = Na3PO4 + 4NaCl + 3H2O